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常見問題

2023-02-09

使用機械的、機電的、熱力的方法來產生形成固態(tài)薄膜.通常是物理氣相沉積的方法Physical vapor deposition(PVD).以下是常見的物理鍍膜工藝:

2023-02-07

新型功能陶瓷材料是以電、磁、光、聲、熱、力學、化學或生物功能等的介質材料.功能陶瓷材料種類繁多。用途廣泛,主要包括鐵電、壓電、介電、熱釋電、半導體、電光和磁性等功能各異的新型陶瓷材料。

2023-02-07

ITO靶材主要有四種成型方法真空熱壓--真空熱壓法是利用熱能和機械能使陶瓷材料致密化的工藝,可生產密度為91%~96%的高密度ITO 陶瓷靶材,

2023-01-17

PVD基本方法:真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)，以下介紹幾種常用的方法，

2023-01-11

新型的濺鍍設備幾平都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化，造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導電的陶磁材料則使用 RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材

2022-12-20

?磁控濺射鍍膜中,溥膜由于各種原因會產生內應力,不將其控制在合理的范圍內會導致薄膜脫落等負面情況.大大減少使用壽命.內應力通常由于產生因素不同,會出現'拉應力’和'壓應力'兩種情況.由于內應力產生因素較多目鍍膜種類方式均有不同,本文對其產生因素做一個簡單概述方便讀者在實際工作分析時有一個初步的判新

2022-12-20

磁控測射法具有設備簡單，鍍膜面積大，其面升溫緩慢以及成本相對較低的特點在科研領域得到了廣泛的應用,本文以作者淺薄理解為基礎,磁控濺射鍍膜技術為例,

2022-12-20

磁控濺射鍍膜技術中,工藝參數對鍍膜質量的影響非常大,涉及知識面廣,變量多也是主要難題之一,本模塊的內容呢就是每次分享一種工藝參數的學習心得,積少成多~本文介紹的是'偏置電壓’在鍍膜過程中的影響

2022-12-19

磁控濺射是一種涉及氣態(tài)等離子體的沉積技術,該等離子氣體被生成并限制在一個包含要沉積的材料的空間內.濺射靶材的表面被等離子體中的高能離子侵蝕,釋放出的原子穿過真空環(huán)境并沉積在基板上以形成薄膜

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